سال گذشته، فناوری 1-گاما در مرحله «فعالسازی بازده» بود، به این م،ی که شرکت در حال آزمایش نمونههایی از DRAMهای آزمایش گسترده و روشهای کنترل کیفیت بود. در این مرحله، شرکت ممکن است بازرسی نوآورانه ای را در ابزارها برای شناسایی عیوب اجرا کند و سپس برای به حدا،ر رساندن بازده، بهبودهای خاصی را در مراحل خاص فرآیند (مثلاً لیتوگرافی، اچینگ) معرفی کند.
ساتوشی نوهارا، مدیر کل دفتر سیاست اطلاعات و بازرگ، METI گفت: «میکرون تنها شرکتی است که DRAM در ژاپن تولید می کند و برای تنظیم سرعت نه تنها برای صنعت DRAM جه،، بلکه برای ا،یستم نیمه هادی در حال توسعه ما بسیار حیاتی است. ما خوشحالیم که همکاری ما با Micron در هیروشیما با پیشرفته ترین EUV که در خاک ژاپن معرفی می شود، ریشه دوانده است. این نه تنها استعدادها و زیرساخت های ا،یستم نیمه هادی ما را عمیق تر می کند و پیشرفت می کند، بلکه رشد نمایی و فرصت را برای اقتصاد دیجیتال ما باز می کند.
منبع: https://www.anandtech.com/s،w/18866/micron-to-bring-euv-to-،an-1-gamma-dram-to-be-made-in-hiro،ma-in-2025
Micron به ،وان تنها سازنده بزرگ DRAM که لیتوگرافی فرابنفش شدید را اتخاذ نکرده است، قصد داشت در سال 2024 استفاده از آن را با فرآیند 1γ (نسل سوم گره ک، 10 نانومتری خود) آغاز کند. اما به دلیل رکود بازار رایانه های شخصی و کاهش هزینه های آن، این شرکت مجبور شد برای به تعویق انداختن این طرح تا سال 2025. فناوری فرآیند 1γ Micron قرار است از EUV برای چندین لایه استفاده کند، اگرچه فاش نمی کند که چند لایه از آن استفاده می کند.
برای تولید تراشههای حافظه بر روی گره 1 گاما خود در کارخانه هیروشیما، Micron نیاز به نصب اسکنرهای Twinscan NXE ASML دارد که حدود 200 میلیون دلار برای هر واحد هزینه دارد. برای تج، فاب خود به ابزارهای پیشرفته، Micron کمک مالی 46.5 میلیارد ین (320 میلیون دلار) را تضمین کرد از ،ت ژاپن در سپتامبر گذشته. در همین حال، Micron می گوید که با حمایت نزدیک ،ت ژاپن، 500 میلیارد ین (3.618 میلیارد دلار) در این فناوری در چند سال آینده سرمایه گذاری خواهد کرد.
Micron این هفته رسماً اعلام کرد که کارخانه خود را در هیروشیما، ژاپن، برای تولید تراشههای DRAM بر روی فناوری فرآیند 1γ (1 گاما) خود، اولین گرهای که از لیتوگرافی فرابنفش شدید استفاده میکند، در سال 2025 مجهز میکند. این شرکت اولین سازنده تراشه خواهد بود. استفاده از EUV برای تولید حجمی در ژاپن و کارخانههای آن در هیروشیما و تایوان، اولین سایتهایی خواهند بود که از فناوری آینده 1γ استفاده میکنند.
Sanjay Mehrotra، رئیس و مدیر عامل Micron گفت: «عملیات هیروشیما Micron در توسعه و تولید چندین فناوری پیشرو در صنعت برای حافظه در دهه گذشته نقش اساسی داشته است. ما مفت،یم که اولین نفری هستیم که از EUV در ژاپن استفاده می کنیم و در کارخانه هیروشیما در حال توسعه و تولید 1-گاما هستیم.
چیزی که این شرکت می گوید این است که گره 1γ آن کوچکترین سلول حافظه جهان را فعال می کند، که با توجه به این واقعیت که Micron احتمالاً نمی تواند بداند رقبای خود در سال 2025 چه چیزی خواهند داشت، ادعایی جسورانه است.