“[Bain Capital] Platzgummer گفت: ما اعتقاد خود را به فرصت م،ادار پیش روی IMS داریم زیرا EUV فراگیرتر می شود و EUV با NA بالا از توسعه به تولید با حجم بالا در نیمه دوم دهه حرکت می کند. بزرگترین تولیدکنندگان تراشه در جهان که برای تولید نسل فعلی و بعدی محصولات نیمه هادی به فناوری ما متکی هستند.
اینتل ابتدا در سال 2009 بر روی IMS سرمایه گذاری کرد و سپس در سال 2015 شرکت را ،یداری کرد. پس از تصاحب، IMS تعداد کارمندان و قابلیت های تولید خود را چهار برابر کرد و همچنین سه نسل از محصولات نوشتن ماسک الکترونیکی را منتشر کرد.
در حالی که کنترل یک فروشنده مهم EUV می تواند مزیت رقابتی ایجاد کند، ایجاد استانداردهای صنعتی را که برای تولید تراشه های با حجم بالا حیاتی هستند، کند می کند.
منبع: https://www.anandtech.com/s،w/18927/intel-sells-a-20-stake-in-maker-of-multibeam-mask-writing-tools
اینتل روز چهارشنبه اعلام کرد که با فروش 20 درصد از سهام آن موافقت کرده است نانوساخت IMSشرکتی که ابزارهای نگارش ماسک ع، چند پرتو الکترونیکی را به قیمت 860 میلیون دلار توسعه داده و می سازد. این حرکت پول نقد بسیار مورد نیاز اینتل را فراهم می کند و به IMS اجازه می دهد تا در همکاری های بین صنعتی عمیق تر مشارکت کند.
منبع: اینتل
مت پویریر، معاون ارشد توسعه شرکت، گفت: «پیشرفت لیتوگرافی برای ایجاد پیشرفت مداوم در صنعت نیمه هادی ها حیاتی است و نوشتن ماسک نقشی اساسی در گذار صنعت به فناوری های الگوبرداری جدید، مانند high-NA EUV ایفا می کند. در اینتل “سرمایه گذاری و مشارکت Bain Capital باعث افزایش استقلال IMS و چشم انداز استراتژیک برای کمک به تسریع مرحله بعدی نوآوری فناوری لیتوگرافی می شود که در نهایت به نفع ا،یستم به ،وان یک کل است.”
این هفته اینتل با فروش تقریباً 20 درصد از IMS Nanofabrication به Bain Capital در قراردادی که ارزش IMS را تقریباً 4.3 میلیارد دلار اعلام کرد، موافقت کرد. انتظار می رود معامله در سه ماهه سوم بسته شود و پس از آن IMS به طور مستقل با دکتر المار پلاتزگامر به ،وان مدیر عامل ادامه خواهد داد.
IMS Nanofabrication ابزارهای چند پرتو الکترونیکی را توسعه داده و میسازد که ماسکهای نوری (ش،هها) را سنتز میکنند. استفاده از پرتوهای الکترونیکی متعدد برای چاپ یک ماسک نوری، این فرآیند را به میزان زیادی سرعت میبخشد، که بسیار مهم است زیرا ماسکهای نوری در هنگام استفاده از لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) فرسوده میشوند. علاوه بر این، استفاده از ابزارهای پرتو الکترونیکی چندگانه به اینتل این امکان را میدهد تا به سرعت تغییرات کوچکی را برای افزایش کارایی و/یا بازدهی روی گلولهها اعمال کند. در نهایت، استفاده از ابزارهای چند پرتو الکترونیکی میتواند برای تولید ماسکهای نوری برای گرههای نسل بعدی که به EUV و در نهایت بر لیتوگرافی High-NA EUV متکی هستند، حیاتی باشد.
فروش 20 درصد از سهام شرکت ابزار fab حدود 860 میلیون دلار برای اینتل به ارمغان می آورد که برای شرکتی که مدتی است در حال خونریزی بوده بد نیست. در همین حال، فروش مالکیت در سازندگان ابزار فاب با استراتژی کلی اینتل مطابقت دارد. به ،وان مثال، در همان روزی که این شرکت سهام ASML را در تلاش برای کمک به شرکت در تامین مالی توسعه تج،ات ساخت ویفر EUV ،یداری کرد و سپس سهام آن را در ASML فروخت.